3月26日，2025中国国际半导体展在上海新国际博览中心开幕。半导体产业链的各个环节企业，全方位展示芯片设计、制造、封测、设备、材料等方面的最新技术与产品。深圳新凯来工业机器有限公司发布了5款工艺设备新品，包括外延沉积设备EPI（峨眉山）、原子层沉积设备ALD（阿里山）、物理气相沉积设备PVD（普陀山）、刻蚀设备ETCH（武夷山）、薄膜沉积设备CVD（长白山）。上述新品名称指向半导体制造工艺中至关重要的技术节点。如EPI外延层技术是先进制程和第三代半导体的关键工艺，直接影响芯片性能与可靠性；ALD针对原子级薄膜沉积，是5纳米以下先进制程的核心装备；CVD化学气相沉积是半导体制造中需求量最大的设备之一，设备需满足从28纳米到5纳米不同制程的薄膜沉积需求。

（信息来源：中国政府网、界面新闻。①https://www.gov.cn/yaowen/tupian/202503/content_7015768.htm#1。②https://www.jiemian.com/article/12531617.html  ）

初审：李剑锋

复审：杜朋钊

终审：毛 刚